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和记AG

纳米制造，测量先行。研制高精度的纳米级标准物质，是打造高准确度纳米测量传递链，提升国产纳米制造产品质量可靠性的关键。标准物质研制单位同济大学相关专家介绍，二维铬纳米栅格标准物质突破性地采用分步沉积原子光刻技术，制备难度较大，可直接溯源到自然界量子化物理常数(铬原子跃迁频率)，角度绝对准确性在0.001°量级和记AG，相当于把一个蛋糕按扇形均分成三十六万份。二维铬纳米栅格的结构面积一般为300μm×300μm，在没有划伤或破坏的状况下，每次使用2μm×2μm，不重复使用测量区域次数可达20000次以上。可应用于晶圆级原子力显微镜、扫描电子显微镜等集成电路微纳检测设备校准，也可应用于对超精密位移传感器多种参数的光栅干涉法校准。